Три от най-големите имена в областта на полупроводниковите технологии – Intel, Samsung и Toshiba, обединиха усилия в съвместната разработка на новия 10-нанометров производствен процес.
Проектът е частично финансиран от японското Министерство на икономиката, търговията и индустрията. То ще се включи с 5 милиарда йени (около 62 милиона USD) – половината от нужната за изследователска дейност сума.
Останалите средства ще бъдат набрани от другите участници в консорциума. Очаква се още 10 големи компании да се присъединят към развойната дейност на Intel, Samsung и Toshiba, която ще доведе до създаването на новите чипове.
Актуалните процесори на Intel се произвеждат по 32 nm технология, като компанията подготвя пускането на първите 22 nm чипове в края на 2011 година.
